NMP-4000 Microwave PECVD氣相沉積系統技術參數

NMP-4000 微波等離子體增強化學氣相沉積系統（下載宣傳冊）

NMP-4000 用于沉積單晶金剛石

NMP-4000 微波等離子體增強化學氣相沉積系統（下載宣傳冊）

NMP-4000 用于沉積單晶金剛石

結果表明，在表面存在一層具有強熒光特性的物質，這意味著成功實現了氮摻雜層的形成。

NANO-MASTER NMP-4000 是一款獨立式的微波等離子體增強化學氣相沉積（CVD）系統，適用于多種應用領域，用于沉積高質量的 CVD 單晶和多晶金剛石。該系統設計用于運行長時間的生產流程，具有高可靠性和高重復性。它符合 CE 和 SEMI 標準，能夠處理最大直徑為 4 英寸的晶圓。該系統通過 LabVIEW 軟件進行 PC 控制，具備三級密碼控制的用戶授權和觸摸屏顯示器功能。該系統 自動化且安全聯鎖，基于配方驅動，配有狀態指示器、圖形和字母數字顯示。

NMP-4000 系統包括：

SIMS（二次離子質譜）結果證實了在一顆鉆石上存在兩層氮摻雜層。

腔室：14 英寸不銹鋼立方體腔室，配有 8 英寸門和 5 英寸窗，安裝在不銹鋼基板上，打開前門即可方便地接近壓盤，腔室壁易于清潔。通過安裝在腔室右側下方的自動裝卸裝置裝卸晶圓。腔室由位于加熱壓盤上方的二次鐘罩腔室組成，帶有 5 英寸帶遮光簾的微波屏蔽前置視窗（MW 屏蔽前置視窗）以及帶有 10 英寸法蘭的手動裝卸門（8 英寸門）。帶有遮光簾的前置視窗（5 英寸）帶有微波屏蔽裝置。

微波等離子體源（4 種不同類型的等離子體源）：2.45GHz 頻率，6 千瓦微波源，配有手動調諧器和耦合器。在從低功率密度到高功率密度的整個過程中，等離子體極其穩定。

4 英寸晶圓的自動裝載與卸載：鎖存裝置、氣動隔離門、機械泵和壓力計。泵至毫托爾范圍，將壓下臺面的晶圓載具通過氣動三柱塞加載，然后將壓臺面升起并密封在鐘罩內。

壓臺面：4 英寸鉬質頂部，電阻加熱至最高溫度 1000°C，還配有微波等離子體。壓臺面安裝在不銹鋼波紋管上，并通過步進電機移動。將提供用于處理小樣品的載具。

MFC（質量流量控制器）：六臺 MFC（CH4、H2、Ar、三種 N2）的質量流量控制器，配有不銹鋼氣體管和氣動截止閥。這些 MFC 為輸送載氣或反應氣體提供精確的流量控制和監測。在 MFC 出口處放置氣動高真空截止閥，以便用戶在工藝過程中控制氣體選擇。用戶可通過主系統控制軟件訪問 MFC 和閥門。通往腔室的所有氣體管路均采用不銹鋼制成，帶有超清潔的軌道焊接 VCR 接頭。

氣泡器：用于三甲基硼酸酯的 150cc 氣泡器，帶有加熱的氣體管路。儀表：寬量程壓力計 - 該系統背景壓力的測量采用的是愛德華茲 WRG-D（寬量程壓力計），其能夠涵蓋從大氣壓到 10-9 帕的壓強范圍。該壓力計通過一個 90 度彎頭安裝在底板下方，以減少沉積并提高壓力計的可靠性。皮拉尼 - 愛德華茲 APGX 有源線性對流壓力計。為了在工藝過程中監測工藝壓力，使用了線性對流壓力計。它安裝在底板上，能夠在工藝過程中監測壓力，且對工藝條件的敏感度低于寬量程壓力計。

高溫計：雙波長高溫計用于測量晶圓溫度。

泵：渦輪分子泵 - 法佩克 ATH 500 MT，磁懸浮，耐腐蝕且加熱。渦輪泵通過 ALD 過濾器外殼安裝在系統底板下方。ATH 500 MT 的氮氣抽氣能力為 500 升/秒，并通過主系統控制軟件進行控制。